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              四氟化碳

              四氟化碳

              產品簡介

               四氟化碳

              用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,四氟化碳高純氣及四氟化碳高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。



              詢盤單

              產品信息


              四氟化碳產品特征:

              分子量: 88.01 g/mol
              CAS No.: 75-73-0

              相對蒸氣密度(空氣= 1): 3.038

              相對密度(= 1): 1.96



              組分

              雜質含量

              等級

              包裝方式

              包裝尺寸

              重量

              CF4 99.9%

               

              3N

              鋼瓶

              40L

               

              CF4 99.999%

               

              5N

              鋼瓶

              40L

               

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